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详情介绍
介绍:
靶材是什么,简单地说,靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料,通过更换不同的靶材(如铝、铜、不锈钢、钛、镍靶等),即可得到不同的膜系(如超硬、耐磨、防腐的合金膜等)。PVD(Physical Vapor Deposition),指利用物理过程实现靶材物质转移,将原子或分子由源转移到基材表面上的过程。它的作用是可以使某些有特殊性能(强度高、耐磨性、散热性、耐腐性等)的微粒喷涂在性能较低的母体上,使得母体具有更好的性能。 PVD基本方法有:真空蒸发、溅射 、离子镀。
1、铟涂层均匀,无盲点,无波纹。
2、铟涂层牢固,不会脱落。
3、效率高:涂面积1500*190mm铜板仅需要15分钟(振动2遍)。涂面积50*50mm的ITO玻璃仅需1分钟(振动3遍)。
4、节省铟金属,铟涂层在0.02mm内。
技术参数:
1、使用电压220V/50HZ;
2、功率300W;
3、工作频率10-38KHz;
4、圆头 涂铟面面积:21*10mm;
5、方头 涂铟面面积:50*10mm;
6、弯头 涂铟面面积:30*60mm。
应用领域
-电子元器件焊接(无焊剂);
-电机、变压器、电感器等铝(或者铜)磁导线电子配件焊接;
-其他特殊焊接(无焊剂);
-电池、电极焊接;
-其他难以焊接的非铁质金属材料产品焊接(铝、镍、钼、铜、玻璃、陶瓷、其他非铁质金属类);
-适用于太阳能电池玻璃、半导体、陶瓷加热器,便于针对双重材料(铝-铜、铜-玻璃、铝-玻璃、铝-陶瓷)进行焊接,有助于新产品的开发。
服务:
我们提供用于涂铟的各种手持式超声波处理器。我们也随时为您提供满意的加工定制服务并为您提出解决方案。